美国出口管制，ASML为什么敢说不？

今年1月，佳能珠海工厂在成立即将32周年之前，宣布了关闭的消息。这家珠海工厂是佳能在华15家公司中唯一具备数码摄像机、传感器和镜头生产能力的基地，此次珠海工厂的关闭意味着佳能彻底把相机生产线移出了中国大陆。而10月，佳能又宣布将在日本栃木县新建一座光刻设备厂，这是21年来佳能首次新建光刻设备新工厂，目标将当前产能提高一倍，计划2023年开工，2025年春季开始运营。

一边是不在中国造相机，一边是要在日本造光刻机。两相对比，恐怕既可以解读成常见的“产业链转移出中国”式危言，也可以解读成“中国半导体强敌环伺”的耸听。但有没有第三种可能？

在美国对中国技术出口管制愈加疯狂之时，更多ASML的潜在竞争者们发力光刻机领域，到底是福是祸？在美国多轮出口管制下，市场还能否消化更多的光刻机？中国半导体产业链，还能否乐观起来？

光刻技术的进步

相比于ASML的垄断地位，佳能光刻机的影响还是太小。即使新增部分产能，但如果数量不多，制程也不够先进的话，对于行业格局来说也掀不起风浪。

而且，佳能此次新建光刻机工厂公布的总投资也就是500亿日元，约合人民币24.38亿元。相比于国内动辄百亿元以上规模的半导体产业各类产线投资，如此少的投资规模，又能制造出水平如何的光刻机？

佳能一家光刻机工厂的投资，甚至还没有ASML一台EUV光刻机贵。据路透社报道，ASML最新一代0.55 NA EUV光刻机的订价，已经较上一代提价两倍多，达到近4亿美元，这甚至超过了佳能新光刻机工厂的总投资。

一台设备抵得上佳能一个产线的投资，而ASML每年销售的EUV光刻机数量，总数也达到数百台之多——尽管并非每台都那么贵，但昂贵的EUV也占据了最高比例。ASML三季报就显示，当季实现营收57.78亿欧元，其中EUV光刻机营收占比高达51％。

EUV光刻机因为单台售价高，销售套数倒并不高。三季度ASML共售出86台光刻机，按照工艺先进性排序，EUV、ArFi、ArF Dry、KrF、i-line五类光刻机分别售出12、20、6、38 和 10 套。因此，可计算出EUV单台平均售价2.46亿欧元。而三季度ASML新增订单89亿欧元中，也有38亿欧元订单来源于EUV光刻机。

光刻机按光源技术进步次序可分为紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、极紫外光（EUV）三大类，其中DUV作为光刻机三大类之一，又分为浸入式和干式两类。浸入技术是指让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中，如纯水折射率1.44，可使激光的实际波长会大幅度缩小，如ArF（氟化氩） immersion浸入式光刻机，比干式光刻机更加先进，第一台浸入式光刻机2004年才问世；而干式技术主要包括ArF dry干式光刻机、KrF（氟化氪）光刻机。

ArF dry干式光刻机的光源波长为193nm，在经过超纯水折射后的ArFi浸入式光刻机可以做到等效134nm，而EUV光刻机的光源波长更是可以降低到13.5纳米的水平。

采用UV光源的则是比较低端的光刻机，如i-line光刻机就属于UV，在i-line之下还有更低端的h-line、g-line光刻机等。i-line、h-line、g-line光刻机我们已经实现国产，而ASML外售的光刻机最低也是i-line起步，三季报显示其i-line光刻机营收仅占1％。